857章 牵一发动全身！（2/2）
可以防止微尘或挥发气体污染光掩膜表面，减少光掩膜使用时的清洁和检验。
而且这些薄膜的对光源的透射率太差的话，会大大地影响到光刻机的产量，如果光刻机的每个小时的晶圆吞吐量过低的话也是杨杰不能忍受的。
为了达到这些设计目标，华兴集团公司还有大量的研发要去做，没有个五六年的功夫这些技术是无法成熟起来的。
极紫外光光刻机光刻的时候使用镜面反射光而不是用透镜折射光，所以采用的光掩膜版也需要改成反射型，改用覆盖在基体上的硅和钼层来制作，同时因为极紫外光光刻机因为制程工艺极高，对光掩膜版的准确度、精密度、复杂度要求比以往更高。
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